2026-11-11

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文 |王动 编辑 | 丁宁 视觉设计：星船知造 正文共计： 8408字 预计阅读时间： 7 分钟 厚度决定速度。 一家成立仅仅两年的公司能做出EUV光源样机，不是因为天降奇才，而是因为一条漫长的产业链已足够厚实。 秋天是丰收的季节。每到秋天，上海桂花香，落叶黄，城市就像被金色绸缎包裹了起来。 2026年秋，中国工博会现场。朗道燧岩（上海）科技有限公司的 一台极紫外（EUV）光源系统样机 引起了人们极大的好奇。 好奇的点有二。 一是其落在产业上的分量。 EUV光刻机是制造7nm及以下先进芯片最具经济性的主流方案。其三大核心零部件正是 极紫外光源（EUV光源） 、 光学系统 （投影物镜） 与双工件台 。 中国极紫外光源长期受海外技术垄断与禁运限制。但据此次据朗道燧岩展台工作人员介绍，这台极紫外光源系统样机的国产化率已达 90% ，绝大多数核心零部件为自主研发，可用于芯片曝光测试。 当然，样机亮相不等于可以量产 一台能测的 样机 ，和一台真正能进入工业级应用的 产机 之间，还隔着“功率、稳定性、客户验证”等多条鸿沟。 这台光源系统样机距离量产，还需3到5年。 此前，中国在极紫外光源环节上做到的是“零部件级”的研发进展——这台样机是我们第一次把激光、锡滴、收集镜、真空、控制等核心部件全部装到一起，并让它们同时点亮（能用于芯片曝光测试）。 它的出现，意味着中国EUV光刻机的核心环节 （EUV光源系统） 已从实验室技术验证迈向工程化样机阶段。——国产EUV的量产之路将由此提速。一旦半导体设备国产化最坚硬的EUV光刻机拼图被补齐，7nm、5nm先进制程将打破最核心的硬件卡点。 source：unsplash 半导体硅晶圆 人们好奇的另一个点，则是一个耐人寻味的追问： 成立两年的上海公司，凭什么做出EUV光源样机？ 朗道燧岩成立于2024年。至今不过 两年 。 相比之下，同一展馆内，中微公司展出的极高深宽比刻蚀设备，已能面向先进存储芯片做超高堆叠刻蚀——走到这一步，中国刻蚀产业用了 二十年 。 北方华创等平台化厂商把覆盖薄膜沉积等环节的设备搬上工博会，宣告薄膜沉积等环节已进入国产替代攻坚阶段——这条路，至少走了 十五年 。 而EUV光源样机的“两年”，并不是单一企业一家能做到的“两年”。它背后站着的，是一条已经足够厚实的产业链。让年轻企业得以站在众人肩上，完成第一次整机级点亮。 伏脉千里，长链会师。 01 一条没人能独自走完的路 年轻的朗道燧岩，把“对标阿斯麦”写在了官网醒目处。 “朗道仿真项目组对标ARCNL (ASML&Cymer所用仿真服务机构)，为半导体行业提供等离子体仿真解决方案。”目前其“天算”仿真能力已嵌入朗道自身的EUV光源研发。 企业自信的底气不仅在于自身， 还在于一条漫长的产业链——中国EUV光刻机几乎每一个关键环节都有人在做。 光源领域，朗道燧岩的背后，精密光学、高压电源的国产货架已经摆满： 长春光机所体系的收集镜+多层膜、中科科仪的真空系统、中科仪的干式真空泵龙头……当朗道燧岩攻关光源系统的锡滴、激光、软件的同时，也伸手就能从国内货架拿到这些自主可控的器件，并把它们装到一起。 在EUV 光刻机中， 光源被认为是技术难度最高、研发周期最长的子系统之一： EUV光源是一种能够产生波长在10-121纳米极紫外波段光线的装置。 7nm及以下先进制程依赖13.5nm 的EUV光源。 拆开一台EUV光源系统，能看到 一条由激光器、锡滴发生器、收集镜、真空泵组、氢气流量控制与热管理系统 耦合而成的完整产业链。 搭起这条链的难度有多大？ 大到在EUV光源整机量产供应层面，全球长期只有两家： 荷兰的阿斯麦（ASML）、日本的Gigaphoton。 source：阿斯麦 首先，强如阿斯麦，也并不拥有完整的高端光刻机产业链。 到今天为止，也没有任何一个国家可以做到这一点。 一台高端EUV光刻机，包含10万个以上的精密零件，背后是上千家供应商。其精度要求常被形容为用一支笔在米粒上刻完一整部书。 同时，高端光刻机全球格局高度集中。 据第三方测算，阿斯麦整机大部分零部件向外采购，供应商总数达5000余家，但真正决定EUV能否工作的核心供应商，几乎一只手数得过来。 整机在荷兰，ASML做总装；光学系统在德国，蔡司几乎是投影物镜的唯一选择；材料与部分设备在日本（刻胶、高纯试剂、部分光学基材）。 也就是说，作为目前全球唯一能商业化交付EUV光刻机的公司，阿斯麦的关键环节分散在数国，阿斯麦做的是组装工程。但产业格局高度集中。 再具体到三大核心部件的光源侧，也是一样。 目前商用EUV光源的主流方案是LPP（Laser Produced Plasma,激光等离子体光源），这也是目前唯一被证明可以量产的EUV光源方案。朗道燧岩此次发布的EUV光源样机采取的就是